中远红外滤光片镀膜材料的选择-北京微光远航科技

中远红外镀膜材料的选择

中远红外（3–5 μm、8–12 μm）常用镀膜材料以锗Ge、硅Si、硫化物、硒化物；氧化物（仅限短波红外）、氟化物以及金属膜层为主。主要用于生产中远红外带通滤光片、截止滤光片、分束器、减反射膜、分光膜、反射镜等。功能覆盖波长过滤、增透、高反、分光、保护等功能。

产品

高折射率材料（锗）
1. 锗（Ge）硬度：莫氏硬度 6，努氏硬度～800 HV，熔点：937 °C
蒸发方式：电子束蒸发（E-beam），需高真空（≤5×10⁻⁴ Pa）。
光谱特性：透明区：2–16 μm；吸收边界：1.8 μm（短波限），>16 μm 吸收快速上升；温度升高时吸收显著增加；折射率：n≈4.0 @ 10.6 μm，正常色散；常用波段：3–5μm、8–12 μm增透/高反膜系，CO₂激光（10.6 μm）等。
中等折射率材料（硒化锌、硫化锌等）
1.硒化锌(ZnSe)硬度：莫氏硬度 4.5，努氏硬度～400 HV，质地软、易划伤，需镀保护膜; 熔点：1525 °C。
蒸发方式：电子束蒸发、电阻热蒸发（易分解）。
光谱特性：透明区：0.6–21μm，折射率：n≈2.40 @ 10.6 μm，色散小，多与锗材料搭配使用；常用波段：8–12μm 增透、10.6μm 激光元件、中波红外窗口镀减反射膜。
2.硫化锌（ZnS，多光谱 / 红外级）硬度：莫氏硬度 6.5，努氏硬度～900 HV，比 ZnSe 硬、耐磨，熔点：1830 °C（升华）。
蒸发方式：电阻热蒸发（常用）、电子束蒸发。
光谱特性：透明区：0.4–14 μm（可见光–长波红外）；吸收边界：~14 μm 开始吸收；折射率：n≈2.25 @ 10 μm，正常色散；• 常用波段：3–5 μm、8–12 μm 多用于增透膜间隔层、宽带增透。
3.三氧化二钇（Y₂O₃）硬度：莫氏硬度 7，努氏硬度～1100 HV，化学稳定；熔点：2410 °C
蒸发方式：电子束蒸发，易水解，需防水汽。
光谱特性：透明区：0.3–8 μm，吸收边界：>8 μm 吸收上升；折射率：n≈1.9 @ 5 μm，低色散；常用波段：3–5 μm 增透、保护膜、常作为氟化物与硫化物过渡层。
4.氧化铝（Al₂O₃，蓝宝石 / 多晶）硬度：莫氏硬度 9，努氏硬度～1800 HV，超硬、耐磨；熔点：2072 °C。
蒸发方式：电子束蒸发（高能）、离子束溅射（IBS）
光谱特性：透明区：0.2–5.5 μm，吸收边界：>5.5 μm 吸收显著增加；折射率：n≈1.75 @ 3 μm；常用波段：3–5 μm 窗口 / 保护、高功率激光、严苛环境。
低折射率材料
1. 氟化镱（YbF₃）硬度：莫氏硬度 4，努氏硬度～350 HV，较软，熔点：1157 °C
蒸发方式：电阻热蒸发、电子束蒸发（易分解）。
光谱特性：透明区：0.2–12 μm，吸收：>12 μm 吸收上升；折射率：n≈1.52 @ 10 μm，低色散，常用波段：8–12 μm 增透膜（与 ZnS/Ge 配对）、长波红外宽带增透。
2. 氟化钙（CaF₂）硬度：莫氏硬度 4，努氏硬度～300 HV，软、易潮解熔点：1418 °C。
蒸发方式：电阻热蒸发、电子束蒸发；需防潮。
光谱特性：透明区：0.13–10 μm（紫外–中红外）吸收：>10 μm 强吸收；易水解产生吸收；折射率：n≈1.41 @ 10 μm，常用波段：3–5 μm 增透、紫外–红外宽带、低温光学。
北京微光远航科技有限公司提供各种中远红外滤光片。光谱类型包括带通IRBP、长波通IRLP、短波通IRSP、减反射IRAR、分束器IRBS等。工作波段:3~5 μm、8~14 μm。主要应用于:NDIR 红外气体检测、红外热像测温、红外光谱分析、环境烟气监测、安防夜视及医疗红外设备等领域。

了解详情中远红外滤光片